上图是具有不同用途的金刚石薄膜产品，其中左上角是独立式金刚石薄膜，右下角是在Si衬底上的金刚石薄膜.
产品说明：CVD金刚石薄膜
概述：
我们可以提供厚度低至50nm的独立式金刚石薄膜。它们分别用于以下几个方面：
l 超薄X-射线窗口
l 重离子辐射探测器
l 高能粒子辐射发光屏
l 产生高离化粒子的剥离膜
l 激光加速膜
这样的金刚石薄膜可以采用独立式的，也可以用CVD技术沉积到附加的支撑基底上。
CVD金刚石薄膜规格参数：
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材料 |
CVD光学级金刚石 |
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导热系数 |
>1800 W/mK |
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表面 |
双面抛光，表面粗糙度< 10 nm rms |
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尺寸 |
直径可达76 mm（依赖于厚度） |
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厚度 |
在50nm（更薄，可根据要求）和几十μm之间 |
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镀膜 |
金属化或介质层 |
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装配 |
独立式或附加到支撑体上 |
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